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脑部胶质瘤是怎样形成的?哪些人易患脑胶质瘤?

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脑部胶质瘤是怎样形成的?哪些人易患脑胶质瘤?若人类接受电离辐射平均剂量15gy,随访40年,脑胶质瘤的风险增加一倍,脑膜瘤和听神经瘤的风险更高。来自原子弹幸存者的数据复制了胶质瘤特有的风险,与中等剂量下的线性剂

  胶质瘤是怎样形成的?脑胶质瘤是一种由胶质细胞(星形胶质细胞、少突胶质细胞、室管膜细胞)产生的良性或恶性大脑和脊髓肿瘤。由星形细胞产生的肿瘤称为星形细胞瘤或星形细胞瘤。由少突胶质细胞引起的肿瘤称为少突胶质肿瘤。由室管膜细胞产生的肿瘤称为室管膜瘤

  脑胶质瘤作为一种常见的原发性颅内肿瘤,约占恶性脑肿瘤的80%,它们可以发生在中枢神经系统的任何地方,但主要发生在大脑和胶质组织中,胶质母细胞瘤是极其常见的胶质瘤(占所有胶质瘤的45%),5年相对生存率为5%,具有切除难度高、预后差、复发率高的特点。

脑部胶质瘤是怎样形成的?哪些人易患脑胶质瘤?

  遗憾的是,脑胶质瘤的形成原因目前尚不明确,根据现有研究,一些风险因素可能诱发胶质瘤的产生。

  可能影响胶质瘤发生的因素有哪些?哪些人易患脑胶质瘤?

  1、遗传基因

  自20世纪90年代初以来,病例对照研究就开始研究常见遗传变异在导致胶质瘤风险中的作用,研究发现,孟德尔癌症综合征家族中肿瘤的发病率增加,初步表明遗传因素对胶质瘤的发生有影响,许多家族性癌症综合征与胶质瘤风险增加有关。

  2、抗组胺药物的使用

  关于使用抗组胺药和胶质瘤的潜在关联的流行病学结果颇有争议。虽然许多分析表明使用抗组胺药会增加胶质瘤的风险,但这些风险只在那些有过敏症或哮喘诊断史的人中发现,另一项分析的结果表明,在那些没有医学诊断为过敏的人中,抗组胺药的使用与高级别胶质瘤风险(WHO III-IV级)之间存在负相关关系。

  3. 电离辐射

  在原子弹研究、核试验沉降物数据、癌症和良性疾病的治疗性辐射以及职业和环境研究中,观察到了高剂量电离辐射和所有脑瘤的关联性。研究表明,若人类接受电离辐射平均剂量1.5gy,随访40年,脑胶质瘤的风险增加一倍,脑膜瘤听神经瘤的风险更高。来自原子弹幸存者的数据复制了胶质瘤特有的风险,与中等剂量下的线性剂量反应一致。两项针对癌症幸存者的研究表明,他们接受了相对高剂量的原发性癌症放射治疗,增加了胶质瘤的几率。

  非电离辐射:手机的使用会增加患胶质瘤的风险吗?

  经常使用手机会增加患胶质瘤的风险吗?移动电话技术于20世纪80年代引入,在90年代中期在全球范围内流行起来,目前绝大多数人使用手机。当手机拿在头上时,大脑是吸收极多多射频场的器官。由于公众对使用手机可能是一个新出现的危险因素的担忧,胶质瘤的发生风险与使用手机之间的关系已被广泛研究。自2011年IARC专著发表以来,6项关于成人使用手机与胶质瘤风险相关的流行病学研究:3项发病时间趋势研究,2项大型队列,和1项病例对照研究发表的证据并不支持使用手机与成人患胶质瘤风险之间的关联。

  综上,许多危险因素被认为是诱发胶质瘤风险的潜在因素,包括一些遗传性遗传因素、特应性疾病和电离辐射暴露会导致患脑胶质瘤的风险增加。

  针对脑胶质瘤病因与治疗手段的研究一直在进行中。INC旗下世界神经外科顾问团(WANG)专家成员巴特朗菲教授精通脑半球病变、脑干病变、脑血管疾病、脑内深层区胶质瘤、颅颈交界处的病变等的肿瘤切除术、神经吻合术以及各种椎管内肿瘤切除术,每年的手术量在400台以上,且无一例外是高难度手术。INC之加拿大James T. Rutka教授对于小儿脑瘤和癫痫的治疗极具心得,他精于前沿研究和技术的使用,作为激光间质热疗(LITT)技术的世界先行者,教授拥有近十年的LITT使用经验,为很多脑瘤患儿解除痛苦。

  【INC神经外科教授巴特朗菲教授更多案例

  参考文献:doi: 10.1093/neuonc/nou087

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